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POZA RICA, Ver., 23 de mayo de 2021.- Al arranque del examen de admisión para ingresar a la Universidad Veracruzana, en la región Poza Rica-Tuxpan, están garantizadas las condiciones de seguridad y sanitarias para los aspirantes quienes presentarán la evaluación, aseguró el Vicerrector José Luis Alanís Méndez.
Afirmó que las actividades iniciaron en tiempo y forma como se tenía planeado en las dos sedes: Unidad de Ciencias de la Salud y Unidad de Ingeniería y Ciencias Químicas, en cuyos accesos se procede a tomar la temperatura y ofrecerles gel antibacterial por parte de pasantes de la Facultades de Enfermería y Medicina.
Los jóvenes al llegar a las sedes tenía en mano la información necesaria para identificarse y llegar al espacio donde les corresponde presentar el examen con las medidas sanitarias, “ello para garantizar las condiciones de seguridad y también relacionadas con la pandemia, en donde debemos tener un distanciamiento adecuado, se realizará la sanitización de los espacios todos los días durante la aplicación del examen”.
El proceso de examen de admisión modalidad presencial será los días 22, 23, 29 y 30 de mayo, en tanto el proceso de línea se realizará los días 24, 25, 26 y 27 de mayo
Durante el recorrido que inició en la Unidad de Ingeniería y Ciencias Químicas dio a conocer que a partir de este sábado presentarán el examen de ingreso en esta región 5 423 jóvenes que aspiran a realizar sus estudios profesionales en alguno de los campus de esta casa de estudios. Ingresarán aproximadamente 2 300 en la región Poza Rica-Tuxpan. Este número representa el 40 por ciento de la matrícula del total de aspirantes, posteriormente se procede al corrimiento.
En el acceso a las sedes, se instalaron previo al examen módulos de atención médica los cuales son atendidos por pasantes de las Facultades de Enfermería y Medicina. Igual que el año pasado al inicio del proceso de examen de admisión se observó una significativa disminución de padres de familia que años antes acompañaban a sus hijos en los accesos a las sedes.